铂族金属化学气相沉积

摘要：

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)技术可用在高熔点金属如Mo、Re、W等表面制备结合力好的铂族金属涂层.用CVD法可得到具有微细晶粒的致密金属(无针孔)涂层,可制成大形状和形状复杂的制品,也可用于合金涂层的制备.本文介绍了该项技术的国外发展概况,并以高温抗氧化铱涂层(可耐受2000℃高温)为代表,叙述了铂族金属涂层的特点以及该项技术在制备涂层过程中的基本步骤,并对工艺参数等各项技术特点进行了系统评述.

关键词：铂族金属、化学气相沉积

所属期刊栏目：21

分类号：O643(物理化学（理论化学）、化学物理学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：49-53