ZnO薄膜的射频磁控溅射制备及性能研究

摘要：

采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出高质量的ZnO薄膜.对薄膜的结构和性能进行了研究.所制备的ZnO是具有六角纤锌矿结构的多晶薄膜,最佳择优取向为(002)方向.ZnO薄膜的霍尔迁移率和载流子浓度分别为8×104m2/(V·s)和11.3×1020 cm-3.

关键词：射频磁控溅射、ZnO薄膜、薄膜晶体管

所属期刊栏目：25

分类号：TN304.2(半导体技术)

在线出版日期：2009-03-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：49-52