微水刀激光技术用于制造第4代OLED掩模版

摘要：

@@ 1 引言
真空掩模蒸镀是制备OLED发光层的主要方法.OIJED掩模版所用的材料是热膨胀系数极低的Invar合金,通常掩模版的厚度只有40μm,带有几百万个微小的长方形像素.由于使用三基色发光材料的彩色OLED在制造过程中需要先后使用几张掩模版,因而对掩模版的精度要求非常高.

机标关键词：oled、激光技术、掩模版

所属期刊栏目：25

分类号：TN24;TN305.7;TN873.3

在线出版日期：2009-02-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：15-18