ArF准分子光刻机使半导体制造工艺到达32 nm Gigaphoton公司发布了用于下一代半导体制造的世界上最强大的氟化氩(ArF)准分子激光器

摘要：

@@ Gigaphoton公司新近设计出一款输出功率为90 W、重复频率为6000 Hz的新型氟化氩(ArF)准分子激光器.该激光器可用于浸没式光刻机,其可使制作半导体晶片的制程仅为32 nm.目前,全球芯片制造商刚开始将45 nm制程技术投入量产,据估计32 nm制程技术将于2009年投入使用.

机标关键词：准分子激光器、半导体制造、准分子光刻、光刻机、制造工艺、下一代、gigaphoton

所属期刊栏目：25

分类号：TN2(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2008-04-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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