用光刻工艺生产近红外三维光子晶体
三维光子晶体、光刻工艺、近红外、工艺生产
O436;TN305.7;TN25
2006-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共1页
33
点击收藏,不怕下次找不到~
三维光子晶体、光刻工艺、近红外、工艺生产
O436;TN305.7;TN25
2006-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共1页
33
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1
违法和不良信息举报电话:4000115888 举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn