10.3969/j.issn.1007-1180.2004.05.013
100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的发展
阐述了100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的功能与构成,并通过对国内外100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的技术现状的分析,总结出了100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台所包含的各项关键技术,为100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的研制奠定了基础.
光刻机、工件台、掩模台
TN305.7(半导体技术)
2006-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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