利用电光光谱对反铁电液晶中弛豫过程的研究

摘要：

@@ 反铁电液晶(AFLC)很有希望应用于平板显示,因为它比Clark和Lagerwall二人在(铁电液晶(FLCs)中发现的双稳态开关至少还多一个稳定态.确定这种集合模式(collective modes)的起因将有可能对这些材料做进一步改进,以提高它们的开关速度进而增加这些材料在显示器和光电装置中的应用.

机标关键词：反铁电液晶、弛豫过程

所属期刊栏目：17

分类号：O4(物理学)

在线出版日期：2006-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：1-3