温室滴灌条件下灌水下限对小型西瓜生长及耗水特性的影响

摘要：

研究了温室覆膜滴灌下不同土壤水分下限对小型西瓜根冠发育、品质以及耗水强度的影响.结果表明,高水分下限处理促进了小西瓜冠层发育,低水分下限处理表层0～20 cm根系分生能力及根系活力较强;处理间品质指标无显著差异.各处理(灌水下限由高至低)小西瓜全生育期耗水量分别为179.2、172.5和156.7 mm.果实膨大期温室相对湿度为其蒸腾的主要驱动力,建立的综合考虑土壤-大气环境要素对植株蒸腾影响的日光温室小西瓜蒸腾量(Tr)估算模型,可用于实际生产栽培中的灌溉决策管理.

关键词：温室滴灌、小型西瓜、灌水量、生长、蒸腾

所属期刊栏目：33

分类号：S318(作物生物学原理、栽培技术与方法)

资助基金：北京市优秀人才培养资助个人项目2010D002010000001;北京市重大科技攻关课题Z111100056811035

在线出版日期：2014-12-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：92-96