248 nm深紫外光刻胶用成膜树脂的研究进展

摘要：

综述了用于248 nm化学增幅型深紫外光刻胶的不同种类和结构的成膜树脂,以及所使用单体的研发进展,包括聚甲基丙烯酸甲酯及其衍生物、聚对羟基苯乙烯及其衍生物、N取代的马来酰亚胺衍生物,以及其他聚合物等,对不同结构成膜树脂的曝光条件、对光刻胶性能的影响进行了介绍.

关键词：光刻胶、成膜树脂、化学增幅型、曝光

所属期刊栏目：38

资助基金：中石化总部项目G3365-2019-Z1912

在线出版日期：2020-07-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：430-435