化学增幅型光刻胶材料研究进展

摘要：

芯片集成度的提高促使光刻胶向高分辨率方向发展,光刻技术由紫外全谱曝光发展到单一短波长曝光,为满足光刻胶高感度、高分辨率的要求,化学增幅型光刻胶应运而生.“化学增幅”可以提高光刻胶的量子产率,增强光刻胶感度,在深紫外、极紫外光刻中得到广泛应用.而高性能树脂作为光刻胶的成膜剂,对光刻胶的性能有重要影响,不同的树脂结构对应不同的反应机理.本文重点对化学增幅型光刻胶中的脱保护、重排、分子内脱水、酯化缩聚、交联、解聚等反应进行了总结,并介绍了对应的树脂结构.

关键词：化学增幅、光刻胶、感度、成膜树脂、反应机理

所属期刊栏目：38

资助基金：江苏省研究生研究;实践创新项目

在线出版日期：2020-07-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共17页

页码：392-408