以低熔点金属为催化剂的CVD方法制备硅及硅氧化物纳米材料

摘要：

@@ 一维硅纳米材料由于具有优越的电子学、光学特性以及能够与传统的硅基工业相兼容等特点,使其控制制备倍受科研工作者的关注.在众多一维硅纳米材料的控制合成方法中,经典的气相-液相-固相(VLS)机制下的催化剂诱导生长是一种极为重要的控制合成方法.

机标关键词：低熔点金属、催化剂、CVD Method、法制备、硅氧化物、一维硅纳米材料、Melting Point、合成方法、控制制备、科研工作者、诱导生长、光学特性、电子学、液相、特点、气相、经典、机制、硅基、固相

所属期刊栏目：29

分类号：TQ3;TG5

在线出版日期：2011-11-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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