一种新型酞菁类光蚀刻记录材料的光生酸性质研究

摘要：

通过研究对甲苯磺酸酯空心酞菁的性质,发现该化合物在紫外光照射下可生酸,是一种光生酸剂.由于酞菁类化合物本身具有光催化氧化反应的性能,因此这类光生酸剂在光蚀刻技术中将有很好的应用潜能.

关键词：化学增幅抗蚀剂、光生酸剂、光催化、酞菁

所属期刊栏目：25

分类号：TQ57

资助基金：国家自然科学基金20333080;20572059;20502013;国家重点基础研究发展计划973计划2007CB808000

在线出版日期：2007-04-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：142-146