10.3969/j.issn.1674-0475.2005.04.009
193 nm光刻胶的研制
从主体树脂的结构设计、单体的合成工艺、主体树脂的合成工艺、光致产酸剂的评价、配方研究等多个方面论述了193 nm光刻胶的研制工艺,合成出了多种适用的单体及多种结构的主体树脂,进行了大量的配方研究,筛选出了最佳配方.研制出的样品经美国SEMATECH实验室应用评价其最佳分辨率为0.1μm,最小曝光量为26 mJ/cm2,不但具有优异的分辨率和光敏性,而且还具有良好的粘附性和抗干法腐蚀性.
193 nm、光刻胶、单体、主体树脂、光致产酸剂、配方
23
O64(物理化学(理论化学)、化学物理学)
国家高技术研究发展计划863计划2002AA3Z1330
2005-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共12页
300-311