10.3969/j.issn.1674-0475.2003.05.005
248 nm深紫外光刻胶
本文从化学增幅技术的产生,深紫外248 nm胶主体树脂及PAG发展历程、溶解抑制剂、存在的工艺问题及解决途径多个方面综述了深紫外248 nm胶的发展与进步.
化学增幅、KrF激光、深紫外光刻、248 nm光刻胶、主体树脂、酸催化、光致产酸剂
21
O64(物理化学(理论化学)、化学物理学)
2003-10-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共11页
346-356
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10.3969/j.issn.1674-0475.2003.05.005
化学增幅、KrF激光、深紫外光刻、248 nm光刻胶、主体树脂、酸催化、光致产酸剂
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O64(物理化学(理论化学)、化学物理学)
2003-10-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共11页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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