10.3969/j.issn.1674-0475.2001.04.003
光诱导聚合蒙脱土插层纳米复合材料的研究
用两种光聚合法研究了蒙脱土插层复合材料的制备.用小角X光衍射技术对产物内蒙脱土的结构进行表征,结果表明,蒙脱土经改性后能很好地使聚合单体及预聚物插入黏土层内并在光照下"就地”聚合生成光聚合复合材料.对光聚合法制备蒙脱土纳米复合材料的优缺点进行了初步讨论.
光聚合、蒙脱土、插层、小角X-光衍射技术、纳米复合材料
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O644(物理化学(理论化学)、化学物理学)
国家自然科学基金29733100;国家重点基础研究发展计划973计划G2000078100
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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250-256