方酸染料与吡唑啉化合物的物化性质及其功能性的研究

摘要：

@@ 1 方酸染料的合成及光谱研究
方酸染料由于其吸收光谱往往呈尖锐的窄峰和具有很大的克分子消光系数(logε＞5), 同时具有好的热稳定性,可被用于吸收指定波长的激光,具有非常好的选择性.随着激光技术的迅猛发展,实现对激光威胁的防护已成为发展综合防护系统的关键技术需求.本课题从制备新型吸收型激光防护染料入手,设计合成了对532?nm激光有高选择性和强吸收的具有不同取代基的方酸染料并研究其在特种树脂中、膜中和溶液中的吸光行为,为制造适合我国激光防护装具提供物质基础.

机标关键词：方酸染料、吡唑啉化合物、物化性质、功能性、激光防护、吸收光谱、高选择性、消光系数、物质基础、特种树脂、设计合成、热稳定性、技术需求、激光威胁、激光技术、光谱研究、防护装具、防护系统、吸收型、取代基

所属期刊栏目：18

分类号：O6(化学)

资助基金：中国科学院资助项目59790050;29973310

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：285-286