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10.3724/SP.J.1105.2014.13254

高分子基质对光学-氧压敏感涂料压力灵敏度的影响

引用
光学-氧压敏感涂料(pressure sensitive paint,PSP)由氧敏感的发光探针和聚合物载体组成,涂料的氧压灵敏度既与发光探针有关,也与聚合物载体有关.以四(五氟苯基)卟啉铂(PtTFPP)为发光探针,将它分别与四种聚合物即聚二甲基硅氧烷(PDMS)、聚甲基苯基硅氧烷(PMPS)、聚甲基氟丙基硅氧烷(PFS)和三氟氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(PFC)混合成膜.研究不同聚合物对PSP的氧压灵敏度的影响,在室温和氧浓度[O2]分别为0%、20%、40%、60%、80%和100%环境下,以λ=365 nm的光激发,测定其对荧光强度I的猝灭作用,从I0/I(I0为纯N2气氛下的荧光强度)对[O2]的关系可知:它们的氧猝灭灵敏度随聚合物的氧透过性而增加,即PDMS>PMPS> PFS> PFC,该结果表明上述体系的氧猝灭可从扩散控制机理得到解释.

压力敏感涂料、聚合物载体、发光探针、荧光猝灭、氧压灵敏度

国家自然科学基金基金号 51003080,51173199;湖北省自然科学基金基金号 2012FFB04705;武汉市青年科技晨光计划项目项目号 201271031385;武汉工程大学研究生创新基金等资助项目

2014-04-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

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高分子学报

1000-3304

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