陶瓷先驱体含锆聚硅烷的电化学合成与表征

摘要：

采用电化学合成法,以三氯甲基硅烷、氯丙烯、环戊二烯和四氯化锆为单体合成出含锆聚硅烷,通过FTIR,UV,NMR,XRD等表征了其结构.测定了产物的各元素含量和双键含量,以及分子量和分子量分布,并对产物进行了交联固化和高温裂解实验.结果表明,含锆聚硅烷双键保留率为10.8%,锆含量为4.11%.含锆聚硅烷能溶于常见的溶剂,成膜性能良好.双键起到了自交联的作用,无需使用交联剂二乙烯基苯;双键和锆的引入使聚硅烷获得了较高的质量保留率和陶瓷产率,裂解产物主要为β-SiC和ZrC,是优良的陶瓷先驱体.

关键词：聚硅烷、双键、锆、电化学合成、陶瓷

分类号：TQ174.1

在线出版日期：2011-09-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：596-601