退火温度对电子束沉积Ag/TiO2薄膜光学性质和光催化性能的影响
研究了退火温度对电子束制备Ag/TiO2薄膜光学性质和光催化性能的影响.在石英玻璃、硅片上沉积了Ag/TiO2复合薄膜,在空气氛围下,进行了400℃,500℃,600℃的退火一小时.用紫外-可见分光光度计、X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)对沉积和退火后的薄膜分别进行光学、结构、形貌分析.结果表明:300℃下制备的Ag/TiO2复合薄膜为无定形结构,400℃-600℃以上薄呈多晶态.吸光度和表面粗糙度随退火温度的增加而增大,薄膜的光学带隙随退火温度的增加而减小.锐钛矿相表现出了更好的光催化性能.
银掺杂二氧化钛、退火温度、光催化、薄膜、电子束沉积技术、微结构、带隙、光学性能
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O643(物理化学(理论化学)、化学物理学)
山东省自然科学基金ZR2015AM024
2018-10-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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969-974