激光预处理对HfO2光学薄膜微观性能的影响

摘要：

研究了在1-on-1方式下激光预处理对HfO2光学薄膜微观形貌、微观结构等性能的影响.实验采用薄膜阈值能量的10％、30％、50％和70％对HfO2薄膜进行激光预处理,利用原子力显微镜(AFM)分别对预处理后薄膜表面10 μm×10 μm和3 μm×3 μm的区域进行测试,与预处理前相比,预处理后的薄膜所含杂质减少,薄膜表面锥状结构变得平滑;利用X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)分别对预处理后薄膜的晶态结构和化学键以及价态进行测试,与预处理前相比,预处理后薄膜的晶态结构、化学键及价态均没有发生变化;利用XPS对预处理后薄膜所含的成分进行测试,与预处理前相比,预处理后薄膜中所含的Hf单质减少,HfO2增多.实验结果表明,激光预处理具有抛光和氧化膜层的作用.

关键词：薄膜、抛光、激光预处理、HfO2、氧化

所属期刊栏目：29

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金;陕西省自然科学基金;国家国际科技合作专项基金

在线出版日期：2018-04-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共10页

页码：187-196