MoO3修饰氧化石墨烯作为空穴注入层影响研究

摘要：

研究了MoO3修饰氧化石墨烯(GO)作为空穴注入层的影响.采用旋涂的方法制备了GO,再真空蒸镀修饰层MoO3,得到了空穴注入能力强和透过率高的复合薄膜.MoO3的厚分别采用0、3、5和8 nm.通过优化MoO3的厚度发现,当MoO3的厚为5 nm时,复合薄膜的透过率达到最大值,在550 nm的光波长下透光率为88％,且此时采用复合薄膜作为空穴注入层制备的结构为ITO/GO/MoO3(5 nm)/NPB(40 nm)/Alq3(40 nm)/LiF(1 nm)/Al(100 nm)的有机电致发光器件(OLED)性能最佳.通过对OLED进一步的优化,改变Alq3的厚度,分别取50、60和70 nm,测量其电压、电流、亮度、色坐标和电致发光(EL)光谱等参数发现,当Alq3的厚为50 nm时器件性能最佳.最终制备了结构为ITO/GO/MoO3(5 nm)/NPB(50 nm)/Alq3(50 nm)/LiF(1 nm)/Al(100 nm)的OLED,在电压为10 V时,最大电流效率达到5.87 cd/A,与GO单独作为空穴注入层制备的器件相比,提高了50％.

关键词：氧化石墨烯(GO)、MoO3、空穴注入层、有机电致发光器件(OLED)

所属期刊栏目：27

分类号：TN383+.1(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金;陕西省科技统筹创新工程计划

在线出版日期：2016-07-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：593-600