有机/无机/有机结构的封装薄膜水汽透过率研究
为了减少原子层沉积(ALD)方法在氧化物薄膜制备过程中ALD反应气对有机电致发光器件(OLED)性能的影响,利用旋涂光交联聚合物技术,直接在OLED上形成有机/无机/有机3层结构的保护薄膜.通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)的表面形貌分析表明,3层结构的封装薄膜表面平滑且致密,减少水(H2O)汽在氧化物表面积聚,降低H2O对氧化物薄膜的腐蚀作用,且成膜过程对OLED的各功能层没有伤害.经Ca薄膜的电学方法测量证明,这种3层结构的封装薄膜对气体有极高的阻隔作用,其H2O汽透过率(WVTR)可以达到9.0×10-5g/(m2·day),从而实现了对OLED的有效保护.
原子层沉积(ALD)、Ca电学测试、有机/无机/有机3层封装结构
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TN383.1;TN873.3(半导体技术)
国家科技计划项目2014DFG12390、国家高科技研究发展计划2011AA03A110、国家重点基础研究发展计划2010CB327701,2013CB834802、国家自然科学基金61275024,61274002,61275033,6137706,41001302;吉林省科技发展计划20140101204JC,20140520071JH;长春市国际合作科技计划13GH02和集成光电子国家重点实验室开放课题IOSKL2012KF01资助项目
2014-10-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
1721-1726
