氧化钒薄膜的制备及其在光激励下对太赫兹波的调制

摘要：

采用磁控溅射法在蓝宝石基底上制备金属钒薄膜,然后在O2中快速热处理获得具有相变特性的VOx薄膜.实验对比了不同的热处理温度和热处理时间对薄膜性能的影响,薄膜的结晶状况用X射线衍射(XRD)进行分析;利用THz时域频谱系统,观测薄膜在不同激励光功率下的相变特性及其对THz波的调制作用.结果表明,在570℃条件下快速热处理60 s所制得的VOx薄膜性能最佳,薄膜对THz波透过性最好,光激励后对THz波的调制作用最大,调制幅度达到83.9％,且引发相变的功率阈值低.

关键词：VOx薄膜、THz调制、光激励、快速热处理

所属期刊栏目：25

分类号：TN213(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家自然科学基金青年科学基金61101055;高等学校博士学科点专项科研基金20100032120029

在线出版日期：2014-05-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：681-686