基于光谱椭偏术的Si球表面氧化层厚度测量

摘要：

为改善X射线晶体密度法测得的阿伏伽德罗常数的标准不确定度,研制了一种基于光谱椭偏术和二维Si球扫描机构的Si球表面氧化层厚度自动扫描测量系统,用于测量直径约93.6 mm、质量约1 kg的单晶Si球表面氧化层平均厚度。用本文系统对标准Si球表面进行400点扫描测量实验,得到氧化层厚度分布,且测得其平均厚度为6.00（22）nm。测量结果可将由氧化层导致的阿伏伽德罗常数测量相对不确定度降低至2.5×10^-8。

关键词：测量、氧化层、光谱椭偏、扫描机构、Si球

所属期刊栏目：22

分类号：TN247(光电子技术、激光技术)

资助基金：清华大学自主科研项目2009THZ06057

在线出版日期：2012-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：1376-1379