氧化钒薄膜太赫兹波段频率特性研究
利用直流对靶磁控溅射镀膜法,在Si衬底上制备出在太赫兹(THz)波段具有开关性能的氧化钒(VOx)薄膜。用X射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)方法对VOx薄膜的组份和形貌进行表征。利用THz时域频谱系统(THz-TDS)对VOx薄膜的光致相变性能进行测试。实验表明,VOx薄膜在波长532 nm连续激光照射下具有明显的光致相变特性,且随着薄膜中V元素总体价态的升高,THz透射率达到峰值时的频率逐渐降低。
氧化钒(VOx)、太赫兹(THz)、光致相变、频率特性
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TN213(光电子技术、激光技术)
国家高技术研究发展计划”863”资助项目2008AA031401;高等学校博士学科点专项科研基金新教师类资助项目20100032120029;天津市应用基础及前沿技术研究计划重点资助项目08JCZDJC17500
2012-04-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
1348-1351