衬底温度对电子束沉积LaF3薄膜性能的影响

摘要：

采用电子束沉积的方法分别在K9玻璃、紫外熔凝石英和Si基片上制备了LaF3单层膜,研究了衬底温度对LaF3薄膜结构和光学性能的影响.衬底温度从200℃上升到350℃,间隔为50℃,用分光光度计测量样品的透射率光谱曲线,并进行光学常数的计算.利用原子力显微镜(AFM)进行表面粗糙度的标定,利用ZYGO干涉仪测量基板镀膜前后的而型变化,利用Stoney公式计算出残余应力.结果表明,在本实验条件下,薄膜的折射率和消光系数随衬底温度的升高而增大;随衬底温度的升高,均方根粗糙度先增大后减小,达到一定温度后,粗糙度迅速增大;残余应力为张应力,随衬底温度的升高而增加.

关键词：光学薄膜、衬底温度、微结构、残余应力、电子束沉积、LaF3

所属期刊栏目：22

分类号：O484.1(固体物理学)

资助基金：山东省教育厅资助项目J05C04

在线出版日期：2011-12-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：876-879