Ti-Al共掺ZnO薄膜的应力、结构和光电性能研究

摘要：

利用直流磁控溅射工艺,在水冷玻璃衬底上成功沉积出了高透光、低电阻率的Ti-Al共掺ZnO(TAZO)透明导电薄膜.X射线衍射(XRD)研究结果表明,TAZO薄膜为具有c轴择优取向的六角纤锌矿结构多品薄膜.研究了TAZO薄膜的应力、结构以及光电性能与薄膜厚度的关系,结果表明.当薄膜厚为531 nm时,薄膜晶格畸变最小,具有最小压应力(绝对值)0.726 6 Gpa,同时具有最小电阻率3.35×10-4Ω·cm,其光学带隙大约为3.58 eV.所制备薄膜附着性能良好,在波长为400～760 nm波段的可见光中平均透过率都超过了91%.

关键词：应力、Ti-Al共掺ZnO(TAZO)薄膜、透明导电薄膜、磁控溅射

所属期刊栏目：22

分类号：TN304.2(半导体技术)

资助基金：山东省自然科学基金ZR2009GL015

在线出版日期：2011-09-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：400-403