In2O3和ZnO混合薄膜的化学腐蚀特性研究

摘要：

利用直流磁控溅射在未加热的BK-7玻璃基片上沉积In2O3与ZnO混合(IZO)薄膜,通过原子力显微镜(AFM)、分光光度计和四探针法研究IZO薄膜在HCl溶液中不同腐蚀时间前后的表面形貌以及光电性质的变化.结果表明:随着腐蚀时间的增加,薄膜的表面均方根粗糙度(RMS)和方块电阻(Rs)都呈现先增后减再增的现象;而薄膜的光学透射率则是先减后增再减.由于ZnO比In2O3更容易在HCl溶液中进行腐蚀,使得样品经腐蚀后出现孔洞结构,孔宽与孔深都随着腐蚀时间的增加而增大,这种具有纳米孔洞结构的透明导电薄膜在未来的光电子器件有潜在应用.

关键词：In2O3与ZnO混合(IZO)薄膜、化学腐蚀、光电学性质、表面形貌

所属期刊栏目：21

分类号：TN383(半导体技术)

资助基金：福建省科技计划重点项目;福建省自然基金资助项目;福建省教育厅项目

在线出版日期：2010-11-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：1210-1213