射频磁控溅射制备的ZnMgO薄膜结构和光学性能

摘要：

采用射频磁控溅射法,在石英衬底上制备了Zn1-xMgxO(x=0.00～0.16)薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计和光致发光(PL)光谱等分析了薄膜的结构、形貌和光学特性.结果表明:当x≤0.10时薄膜保持六角纤锌矿结构,而x=0.16时已出现MgO立方相;所有薄膜品粒大小均匀,在100～150 nm之间;透光率在80%以上;薄膜带隙Eg与Mg含量呈线性关系;薄膜PL谱由较弱的紫外发光峰和较强的可见发光带组成,随Mg含量的增加紫外发光峰蓝移.

关键词：ZnMgO、ZnO、晶体结构、光学性能、磁控溅射

所属期刊栏目：21

分类号：O484.4(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金;重庆大学研究生创新基金;重庆大学工程"三期创新人才培养计划建设资助项目;重庆大学大型仪器设备开放基金

在线出版日期：2010-11-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：1021-1025