气体压强对非晶硅薄膜光学特性的影响

摘要：

采用RF-PECVD工艺在20～100 Pa范围内改变a-Si:H薄膜沉积工作气体压强.傅立叶红外光谱仪(FTIR)测试KBr衬底上的薄膜红外光谱峰随工作气体压强的变化情况,结合红外光谱峰的理论分析确定薄膜中氢含量随工作气体压强变化规律.光谱式椭偏仪中用Forouhi Bloomer(FB) 模型拟合得到薄膜的折射率(n),消光系数(k),厚度及光学禁带Eg,并用扫描电镜(SEM)断面分析对椭偏仪测试结果的准确性进行验证.根据Tauc公式推出薄膜的光学禁带宽Eg和截止波长,并和FB模型得到结果进行了比较,Eg(FB)和Eg(Tauc)的差值在11 meV内.原子力显微镜(AFM)和X射线衍射(XRD)表征了工作气体压强对a-Si:H薄膜微结构的影响.

关键词：非晶硅、工作压强、沉积速率、光学禁带宽度

所属期刊栏目：19

分类号：O484.1(固体物理学)

资助基金：教育部跨世纪优秀人才培养计划NCET-04-0896

在线出版日期：2008-05-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：352-356