MgxZn1-xO薄膜的折射率及三阶非线性研究

摘要：

利用电子束蒸发反应沉积技术,在蓝宝石和硅化玻璃衬底上生长得到MgxZn1-xO薄膜.立方相MgxZn1-xO(0.55≤x≤1.00)薄膜的折射率通过透射光谱技术和Manifacier方法计算得到.与六方相MgxZn1-xO薄膜相似,在400～800 nm波长范围内,立方相MgxZn1-xO薄膜的折射率色散关系遵循最小平方根的一阶Sellmeier色散方程.不同组分的MgxZn1-xO薄膜的三阶非线性极化率采用光克尔效应(OKE)技术测试获得.六方-立方双晶相结构的Mg0.37Zn0.63O薄膜具有最大的三阶非线性极化率,其原因可归功于薄膜微结构中六方和立方晶相分离所导致的晶粒散射.

关键词：MgxZn1-xO薄膜、折射率、三阶非线性极化率、光克尔效应(OKE)

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分类号：O484(固体物理学)

资助基金：浙江省教育厅资助项目20051437

在线出版日期：2006-06-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：549-553