彩色膜上ITO的室温沉积及其在FPD中的应用

摘要：

使用直流磁控溅射技术,在彩色膜衬底上室温制备出粘附性良好的氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜.X光衍射(XRD)和原子力显微(AFM)分析表明,室温ITO为多晶态,薄膜具有很好的透过率和良好的导电特性,方块电阻为120 Ω/□,对应ITO/彩色膜复合膜在450 nm的蓝(B)光、530 nm的绿(G)光、630 nm的红(R)光处的峰值透过率均达到85%左右.彩色膜与ITO电极的形成及联接等加工工艺有良好的相容性.对该技术在彩色液晶显示(LCD)和彩色有机发光显示(OLED)中的应用,进行了探索.

关键词：彩色过滤膜、氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜、室温直流磁控溅射、脱膜图形微细加工、有机发光显示(OLCD)、液晶显示(LCD)

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分类号：TN304.2(半导体技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2002AA303261;国家自然科学基金60077011,69907002;天津市自然科学基金023602011

在线出版日期：2005-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：140-145