用于纳米光电器件的Ti纳米氧化线的AFM加工

摘要：

为利于与微电子加工工艺相结合,基于Ti氧化线的纳米电子和光电器件需要加工μm级长的Ti氧化线.偏置电压和扫描速度是AFM阳极氧化加工Ti纳米氧化线的决定因素.在温度(20 ℃)、相对湿度(30 %)和氧气浓度(20 %)基本保持不变的情况下,在不同的偏置电压和扫描速度下加工了5 μm长的Ti氧化线,研究了不同偏置电压和扫描速度对Ti氧化线加工特性的作用,在偏置电压8 V和扫描速度0.1 μm/s条件下得到了比较理想的长Ti氧化线.

关键词：AFM阳极氧化、Ti氧化线、偏置电压、扫描速度

所属期刊栏目：14

分类号：TN16(真空电子技术)

资助基金：教育部天津大学-南开大学合作项目

在线出版日期：2004-02-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：1296-1298