应变无Al有源层InGaAsp/InGaP/In0.5(GaAl)0.5P/GaAs大功率激光二极管
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10.3321/j.issn:1005-0086.2002.12.006

应变无Al有源层InGaAsp/InGaP/In0.5(GaAl)0.5P/GaAs大功率激光二极管

引用
生长了InGaAsp/InGaP/In(AlGa)P材料分别限制应变量子阱半导体激光器,发光波长780 nm.利用电化学C-V表征材料掺杂,掺杂浓度达1018 cm-1.利用荧光PL及EL表征其光学性质.PL峰为765 nm.制得100 μm、宽1 mm长条形.测得阈值电流为315 mA,斜率效率超过1 W/A,功率转换可达40 %左右.注入电流1.5 A,光功率单管输出达到1.2 W.

激光二极管(LD)、大功率、无Al有源层、MOCVD

13

TN248.4;TN305(光电子技术、激光技术)

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

1226-1229

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光电子.激光

1005-0086

12-1182

13

2002,13(12)

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