HfO2/SiO2光学薄膜激光损伤阈值的测量

摘要：

参照国际标准ISO11254及其规范,组建了小口径1 064 nm激光的损伤阈值测量装置,能对各种光学元件,包括高反膜、偏振膜及增透膜等进行1 064 nm激光损伤阈值测量.按损伤阈值测量国际标准的要求,测量了由HfO2/SiO2镀制的1 064 nm高反膜、偏振膜及增透膜的激光损伤阈值,分析了它们的激光损伤特性,对于10 ns的1 064 nm激光脉冲,高反膜的损伤阈值为12.8 J/cm2,偏振膜为9.8 J/cm2,增透膜为9.2 J/cm2;对于20 ns、1 ns的激光脉冲,高反膜的损伤阈值分别为15.3 J/cm2和5.75 J/cm2.高反膜的损伤阈值对于ns激光脉冲符合时间定标率τ0.35.

关键词：HfO2/SiO2薄膜、激光损伤、阈值测量

所属期刊栏目：13

分类号：O484.5(固体物理学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：356-358