10.3321/j.issn:1005-0086.2001.09.006
硅基硫化锌薄膜的溅射法生长技术
利用射频磁控溅射法在Si衬底上制备ZnS薄膜,用X射线衍射技术对薄膜的结构相变进行研究,揭示了Si衬底上ZnS薄膜的微观结构和相变特征与溅射功率的关系,为寻找高新发光材料提供依据.
射频磁控溅射、微观结构、ZnS薄膜、相变特征
12
O484.1(固体物理学)
福建省自然科学基金99-H-47
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
896-898
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10.3321/j.issn:1005-0086.2001.09.006
射频磁控溅射、微观结构、ZnS薄膜、相变特征
12
O484.1(固体物理学)
福建省自然科学基金99-H-47
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
896-898
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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