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10.3321/j.issn:1005-0086.2001.09.006

硅基硫化锌薄膜的溅射法生长技术

引用
利用射频磁控溅射法在Si衬底上制备ZnS薄膜,用X射线衍射技术对薄膜的结构相变进行研究,揭示了Si衬底上ZnS薄膜的微观结构和相变特征与溅射功率的关系,为寻找高新发光材料提供依据.

射频磁控溅射、微观结构、ZnS薄膜、相变特征

12

O484.1(固体物理学)

福建省自然科学基金99-H-47

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

896-898

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1005-0086

12-1182

12

2001,12(9)

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