电子束蒸镀厚SiO2膜的工艺研究

摘要：

本文研究了用电子束蒸镀工艺制备用于光波导器件的SiO2膜.采用高温退火处理工艺使SiO2膜的光学和物理特性稳定.在蒸镀过程中,输入不同压力的O2,可以改变和控制SiO2膜的组分,达到控制膜折射率的目的.通过逐次蒸镀、退火的工艺,实现1 μm以上厚SiO2膜的制备.

关键词：电子束蒸镀、SiO2、集成光学

所属期刊栏目：12

分类号：O484.1(固体物理学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：569-571