磁控溅射Ge/Si多层膜X射线低角衍射界面结构分析

摘要：

本文对磁控溅射不同结构的Ge/Si多层膜样品进行了X射线衍射的测试和分析,并进一步采用有过渡层的光学多层膜衍射模型对衍射谱进行了拟合;获得了扩散层厚度和分层厚度等多层膜的结构参数,定性讨论了多层膜中互扩散与分层厚度的关系.计算结果与实验结果符合较好.

关键词：Ge/Si多层膜、多层膜衍射、低角X射线衍射谱

所属期刊栏目：11

分类号：O484.5(固体物理学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：72-75