高反射率光学薄膜的一种新设计方法

摘要：

设计极高反射率光学薄膜必须考虑薄膜内电场强度分布对光损耗的影响.本文提出一种新设计方法用于既改善膜层内电场分布以减少薄膜的光损耗,同时又兼顾薄膜的反射率要求.该方法用薄膜的特征矩阵直接计算场强和反射率,建立综合评价函数来兼顾场强分布和光学反射率的要求,利用计算机进行优化设计.而且该方法能灵活有效地按任意场强和反射率要求优化设计各种膜系.

关键词：电场分布、光损耗、高反射率薄膜

所属期刊栏目：11

分类号：O484.4+1(固体物理学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：62-64