10.3321/j.issn:1005-0086.1999.03.005
GaAs 1×4光功分器的制作
本文在GaAs/GaAlAs外延材料上设计和制作了MMI型1×4光功分器.文中首先给出器件的基本工作原理和特点,随后主要讨论器件制作中的GaAs材料的干法刻蚀工艺,最后给出器件测试结果.
集成光学、多模干涉、光功分器、干法刻蚀
10
TN2(光电子技术、激光技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
203-206
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10.3321/j.issn:1005-0086.1999.03.005
集成光学、多模干涉、光功分器、干法刻蚀
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TN2(光电子技术、激光技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
203-206
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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