应用于导电墨水的纳米铜胶体的研制

摘要：

以硼氢化钾(KBH4)为还原剂、硫酸铜(CuSO4·5H2O)为前驱体,乙二胺四乙酸二钠(EDTA-2Na)为络合剂,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为反应场表面活性剂,KOH为pH值调节剂,制备纳米铜胶体.对影响纳米铜胶体粒径以及分散稳定性的因素进行了研究,结果表明:当CTAB,KOH,EDTA-2Na的用量分别为0.22,1.5,0.3～0.4 mol/L时,纳米铜胶体的粒子粒径为30 nm左右,胶体的分散稳定性较好；用该化学还原法可制备出最小粒径为1.09 nm的纯净纳米铜.在聚乙烯吡咯烷酮(PVP)的保护下,可有效防止纳米铜粉末氧化.

关键词：导电墨水、纳米铜、化学还原法、表面活性剂、CTAB、PVP

所属期刊栏目：7

分类号：O648.16(物理化学（理论化学）、化学物理学)

在线出版日期：2013-05-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：37-41