准分子真空紫外改善材料表面结构与性能的研究

摘要：

简述了准分子VUV光源及反应器的结构与特点,用氙172 nm真空紫外灯在不同气氛条件下照射氧化铜片、聚丙烯板(PP)、镀金薄膜,以光电子能谱、全反射红外光谱等分析材料表面,研究材料表面结构与性能的变化.结果表明,控制反应气氛,室温下172 nm VUV即可清除铜片表面的污染物,还原铜片表面的氧化膜及活化镀金薄膜,在PP表面引入羟基或羰基,能有效地改善材料的表面性能.

关键词：真空紫外、表面改性、氧化铜还原、表面清洗、表面活化

所属期刊栏目：4

分类号：TB303(工程材料学)

在线出版日期：2011-03-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：421-427