离子速度对霍尔推力器壁面鞘层特性的影响

摘要：

为进一步探索霍尔推力器通道内等离子体鞘层的物理机制,针对霍尔推力器等离子体鞘层区域建立二维物理模型,采用二维粒子模拟方法研究了二次电子发射系数、鞘层电子数密度、鞘层电势以及电场随离子入射速度的变化规律,分析了模拟区域径向尺度大小对鞘层稳定性的影响.结果表明:壁面二次电子发射系数随离子入射速度的增大有少许增大,变化在10-3数量级;随着离子入射速度的增大,电子数密度、鞘层电势降及径向电场都减小,而轴向电场几乎不变;在相同的边界条件下,模拟区域径向尺度的增大会导致壁面电势随时间的振荡加剧,鞘层稳定性降低.

关键词：霍尔推力器、离子入射速度、鞘层、粒子模拟、二次电子发射、壁面电势

所属期刊栏目：40

分类号：O64;V43

资助基金：国家自然科学基金11275034,11375039,11175052,11005025;辽宁省科学技术计划重点项目2011224007.Project supported by National Natural Science Foundation of China11275034,11375039,11175052,11005025;Key Project of Science and Technology of Liaoning Province,China2011224007

在线出版日期：2014-07-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：160-165