基于Protel的DBD微流注形成分析
介质阻挡放电(Dielectric Barrier Discharge,DBD)是一种有效产生非平衡等离子体的方法,微流注是DBD的主要表现形式,而目前针对DBD微流注形成过程的研究虽然很多,但关于微流注沉积电荷层分散电容对微流注形成过程影响的研究却未见报道.为此,基于Protel模拟方法,建立了一种新的DBD等效电路模型模拟DBD单个微流注进行模拟并验证其放电参量;在此基础上分析了沉积电荷层对于微流注的影响,计算了沉积电荷层电容的大小,以及在此实验条件下沉积电荷层的面积.模拟显示,在激励电压幅值为5 kV、激励频率为6 kHz的正弦波,放电气隙宽度为1 mm时,形成微流注的分散电容值为0 13 pF,在电介质层相对介电常数为10时,计算得电介质层的沉积电荷层直径为1 09mm,与实验测量结果一致.
介质阻挡放电、微流注、沉积电荷层、分散电容、等离子体、Protel
34
O461(真空电子学(电子物理学))
教育部新世纪优秀人才支持计划NCET-05-0296;国家科技支撑计划2006BAC11B06.Project Supported by Program for New Century Excellent Talents in UniversityNCET-05-0296;National Key Technology R&D Program2006BAC11B06
2008-09-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
1445-1449