10.3969/j.issn.1003-6520.2005.10.019
抛光电极表面对加压水介质耐压的影响
改变加水介质同轴实验装置电极表面的光滑程度,进行了μs级充电下的击穿实验,实验结果表明:抛光电极表面后加压水介质击穿场强Eb与水静压P关系仍为Eb∝P1/8;与未抛光时相比,Eb提高了~20%;加压比抛光更能提高Eb;加压延长了击穿延迟时间而抛光减弱了场致发射电流,气泡也较难附着在电极表面.
电极表面光滑程度、加压水介质、高电压击穿
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TL503(加速器)
2005-12-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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