介孔二氧化硅对映选择性吸附的手性印迹调控

摘要：

使用手性阴离子表面活性剂作为超分子模板,采用共结构导向法制备手性介孔二氧化硅(CMS),并运用圆二色谱(CD)对CMS对映选择性吸附结果进行检测,比较了有无共结构导向剂(CSDA)在介孔表面的排列对吸附选择性的影响.结果表明,当使用构型相反的手性超分子模板剂对原合成CMS材料的介孔内表面进行修饰时,可诱导结构共导向剂N-三甲氧基硅基丙基-N,N,N-三甲基氯化铵(TMAPS)发生手性相反的排列进而导致完全相反的对映选择性吸附.实验证明此方法合成的CMS的对映选择性吸附及分离能力主要是由修饰在介孔表面的TMAPS螺旋排列形成的手性印迹所导致.此手性超分子模板诱导TMAPS手性印迹的策略具有一定的普适性,可对原合成介孔材料对映选择性吸附进行原位调控,对于拓展其在立体选择性识别、不对称催化及药物输送等方面的应用具有一定的指导意义.

关键词：手性介孔二氧化硅;手性超分子模板;对映选择性吸附;手性印迹;共结构导向剂

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分类号：O647.3;O658.9(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：国家重点研发计划项目批准号:2016YFA0200904

在线出版日期：2021-10-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：3144-3150