10.3969/j.issn.1007-1865.2018.21.027
半导体工业超纯水的技术指标及其制备概述
半导体工业需要大量的超纯水,随着半导体工业的发展,对超纯水水质的要求日趋严格.当前半导体工业的超纯水的水质指标要求,甚至严格于我国国标电子水的最高标准要求,如微粒子,TOC,电阻率,溶解氧等.因此,相比于其他行业的超纯水,需要更加严格的深度处理技术,如深度处理颗粒物,有机物,深度脱盐,深度脱气技术等等.
半导体工业、超纯水制造、深度处理
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TQ(化学工业)
2019-01-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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