10.3969/j.issn.1007-1865.2018.11.008
一种氨基吡啶铈(Ⅲ)配合物的合成及其应用研究
合成了氨基吡啶铈(III)配合物并通过核磁和元素分析对其进行了表征;通过热重分析(TGA)对其热稳定性,挥发性和蒸汽压等热性质进行了研究,以期适用于化学气相沉积(CVD)技术的应用.最后,通过热型CVD技术制备出了CeO2薄膜,表明氨基吡啶铈(III)配合物可以作为一种新型的CVD前驱体.
氨基吡啶、铈(III)配合物、合成、应用
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O062
2018-08-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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