10.3969/j.issn.1007-1865.2012.18.024
电化学刻蚀铜箔制备超疏水材料
通过电化学刻蚀和自组装两步法,在铜箔表面成功制备了一层超疏水薄膜。薄膜表面与水的接触角可达到160°。用扫描电镜对超疏水表面进行了表征分析。扫描电镜对铜箔表面观察显示,该表面存在微米.纳米尺度的双层复合结构:底层为均匀分布的沟壑状凹槽,在其表面分布了类草坪状的氧化铜纳米颗粒。研究显示双层的微纳米复合结构是在铜箔表箍形成超疏水的关键因素。
电化学刻蚀、铜箔、超疏水拱料
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TQ565.3
2013-02-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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