蒙脱土有机插层改性及其插层性能

摘要：

以十六烷基溴化铵（CTAB）和十八烷基胺（ODA）为有机改性剂制备了有机蒙脱土,研究了反应时间、反应温度、改性剂的用量对蒙托土插层性能的影响,通过傅里叶变换红外光谱图仪（FTIR）、X-射线衍射仪（XRD）和综合热分析（TG-DTA）对其结构和形貌进行表征。结果表明,以十六烷基三甲基溴化铵为改性剂,反应温度为80℃,反应时间为60 min,改性剂用量为115 mmol/100 gMMT制备的有机蒙脱土层间距最大d001=2.206 nm。

关键词：蒙脱土、有机改性剂、插层

所属期刊栏目：38

分类号：O647.2(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：“十一五”国家科技支撑计划项目2009BAG12A07-E03

在线出版日期：2012-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：7-8,51